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Valvola di controllo del flusso assiale

Valvola di controllo del flusso assiale

Valvola di ritegno del flusso assiale HC42T PN10
• Connessione termina: flangia a BS EN 1092-2: 1997
• Pressione di lavoro: PN10
• Intervallo di temperatura: 0 ℃- 100 ℃
• Rivestimento: pittura
Valvole di controllo del flusso assiale HC42X PN10/16

Valvole di controllo del flusso assiale HC42X PN10/16

• Connessione termina: flangia a BS EN 1092-2: 1997
• Pressione di lavoro: PN10/16
• Intervallo di temperatura: 0 ℃- 100 ℃
• Rivestimento: rivestimento epossidico legato alla fusione in conformità con ANSI/AWWA C550
Valvole di controllo del flusso assiale HC42X PN10/16
Valvola di ritegno silenziosa HC41X

Valvola di ritegno silenziosa HC41X

Valvola di ritegno silenzioso HC41X PN10/16/25
• Connessione termina: flangia a BS EN 1092-2: 1997
• Pressione di lavoro: PN10/16/25
• Intervallo di temperatura: 0 ℃- 100 ℃
• Rivestimento: rivestimento epossidico legato alla fusione in conformità con ANSI/AWWA C550
Valvola di ritegno del wafer a porta singola dh74x

Valvola di ritegno del wafer a porta singola dh74x

Valvola di controllo del wafer a porta singola DH74X PN10/16
• Fine di connessione: BS EN 1092 PN10/PN16, AS 2129 Tabella E, JIS B2212 10K, BS 10 Tabella D/E
• Pressione di lavoro: PN10/16
• Intervallo di temperatura: 0 ℃- 100 ℃
• Rivestimento: rivestimento epossidico legato alla fusione in conformità con ANSI/AWWA C550
Valvola di ritegno a doppia porta scanalati DH87X PN10/16

Valvola di ritegno a doppia porta scanalati DH87X PN10/16

• Fine di connessione: scanalatura a ISO 6182
• Pressione di lavoro: PN10/16
• Intervallo di temperatura: 0 ℃- 100 ℃
• Rivestimento: rivestimento epossidico legato alla fusione in conformità con ANSI/AWWA C550
Valvola di ritegno a doppia porta scanalati DH87X PN10/16
Valvola di controllo del wafer a doppia porta DH77X

Valvola di controllo del wafer a doppia porta DH77X

• Fine di connessione: BS EN 1092 PN10/PN16/PN25, AS 2129 Tabella E, JIS B2212 10K, BS 10 Tabella D/E
• Pressione di lavoro: PN10/16/25
• Intervallo di temperatura: 0 ℃- 100 ℃
• Rivestimento: rivestimento epossidico legato alla fusione in conformità con ANSI/AWWA C550
Valvola di controllo del wafer a doppia porta DH77X PN10/16/25
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